高純石墨的生產工藝

高純金屬及半導體材料的生產經常會用到石墨坩堝，為了讓金屬和半導體材料達到一定的純度，減少雜質的數(shù)量，要求使用含碳量很高，雜質很低的高純石墨。

生產高純石墨時，從原材料的選擇上就應該開始嚴格的控制雜質的含量，要選擇灰份低的原材料，并在加工高純石墨過程中防止增加雜質。在石墨化的高溫進行下，很多雜質元素的氧化物在不斷分解和蒸發(fā)，溫度越高，雜質排除的就越多，生產出來的高純石墨就越純。在生產一般石墨化產品時，爐芯最高溫度達到2300℃左右，殘留雜質含量為0.1%—0.3%左右。如果將爐芯溫度提高到2500-3000℃，那殘留雜質含量將會大大減少。生產高純石墨產品時，電阻料及保溫料通常使用低灰分的石油焦。

即使單純提高石墨化溫度達到2800℃的高溫，有些雜質還是很難去除的。部分公司采用縮小爐芯及提高電流密度等提高溫爐的方法提取高純石墨，將石墨化爐產量降低，電量消耗增加，因此生產高純石墨時在石墨化爐溫度達到1800℃時，通入凈化氣體，如通入氯氣、氟利昂等可使石墨中更含有的頑固雜質生成容易分解和氣化的氯化物和氟化物，一直在停電后繼續(xù)加入數(shù)小時，這是為了防止氣化的雜質反方向向爐內擴散，在通入一些氮氣從石墨氣孔中驅除剩余的凈化氣體，方便出爐操作。